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更新時間:2025-11-18
瀏覽次數:15簡要描述:德國 HELLMA 晶體材料 氟化鈣CaF?產品介紹:在現代光學科技體系中,材料性能往往直接決定系統的成像能力、能量傳輸效率與長期穩定性。氟化鈣(Calcium Fluoride,CaF?)作為一種跨紫外—可見—紅外波段都具有優異透過性能的光學晶體材料,已經成為精密光學、光刻技術、高功率激光系統以及紅外探測器的重要基礎材料。
| 品牌 | Hellma/德國豪瑪 | 供貨周期 | 一個月以上 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 綜合 |
德國 HELLMA 晶體材料 氟化鈣CaF? 產品介紹
產品介紹:
在現代光學科技體系中,材料性能往往直接決定系統的成像能力、能量傳輸效率與長期穩定性。氟化鈣(Calcium Fluoride,CaF?)作為一種跨紫外—可見—紅外波段都具有優異透過性能的光學晶體材料,已經成為精密光學、光刻技術、高功率激光系統以及紅外探測器的重要基礎材料。
產品參數:
Hellma 的 CaF? 在以下波段具有高透過性能
130–200 nm:深紫外仍可保持可用透過率(原生晶體雜質極低)
200–400 nm(UV):透過率可超過 90%
400–700 nm(VIS):透過率通常可達 92–94%
1–6 μm(IR):透過率平坦穩定,維持高光通量
圓形晶體:最大直徑可達 ? 440 mm
常規供應:? 20–200 mm
平板厚度:從 1 mm 到 60 mm
可定制形狀:平板、窗口、透鏡坯件、準球面、棱鏡、柱體等
密度:3.18 g/cm3
熔點:1418 °C
熱膨脹系數(@20°C):18.85 ×10?? /K
楊氏模量:75.8 GPa
泊松比:0.26
熱導率(25°C):9.71 W/mK
維氏硬度:158 HV
應用領域:
1. 深紫外(DUV)光學系統
半導體光刻(193 nm、248 nm)
DUV 激光系統
UV 光刻機、紫外顯微鏡
CaF? 的低吸收與低色散能顯著提升光刻系統的成像質量。
2. 高功率激光系統
355 nm / 532 nm 納秒激光
1064 nm 工業激光
高能激光窗口與透鏡
3. 可見光與科研光學系統
光譜儀窗口
精密成像系統
環境監測儀器
天文觀測光學元件
4. 中紅外光學(3–8 μm)
紅外傳感器
熱像儀鏡頭
中紅外窗口、紅外濾光片
激光探測器封裝窗口
產品特點:
寬透射波段(覆蓋 DUV–IR)
大尺寸晶體能力,適合光學制造
內部缺陷控制能力強,均勻性高
可定制多形狀、多規格加工件
德國 HELLMA 晶體材料 氟化鈣CaF? 產品介紹